世界上能獨立制造光刻機的有誰？低端光刻機也可以獨立制造出，主流的不能不能！雖然在性價比高光刻機領(lǐng)域覆雨翻云，但只占據(jù)核心技術(shù)的10%，其他90%的核心器件都不知從何而來歐、美、日、韓等國家和地區(qū)的知名

世界上能獨立制造光刻機的有誰？

低端光刻機也可以獨立制造出，主流的不能不能！

雖然在性價比高光刻機領(lǐng)域覆雨翻云，但只占據(jù)核心技術(shù)的10%，其他90%的核心器件都不知從何而來歐、美、日、韓等國家和地區(qū)的知名企業(yè)。也就是說，極紫外光刻機集成主板了該領(lǐng)域世界更高、精、尖的技術(shù)，阿斯麥公司只不過是“站在眾人肩膀上”參與獨立顯卡創(chuàng)新。

阿斯麥公司生產(chǎn)的產(chǎn)品的極紫外光刻機，它的光源和控制軟件無論是美國，超精密機械及蔡司鏡頭依附德國，特殊的方法復(fù)合材料和光學器材技術(shù)充斥日本，軸承和閥件由瑞典和法國提供給。目前，只有美國英特爾、臺積電、韓國三星等3家公司，可建議使用該光刻機能完成7納米、5納米半導(dǎo)體工藝制造。

極紫外光刻機工作原理？

是用極紫外激光在線路板上刻出線路。

深紫外光刻機是多少納米？

193納米。深紫外光刻機應(yīng)該是指光源波長為深紫外光的光刻機，深紫外光本身是200-350納米，而正常情況對光刻機來說深紫外光是指193納米的duv光刻機。深紫外光光刻機如果不是是干式的，可以不高壓縮到157納米，如果是侵潤式的是可以壓縮到134納米，正常情況所說的的28納米指的是光刻機分辨率并不是光源波長。

上海微電子不是早就有90納米光刻機了嗎？

上微的這款干式光刻機型號是SSA600/20，極高支持90納米工藝節(jié)點。

而如果不是要能制造28納米及以下工藝，那就必須要會用到浸沒式DUV光刻機，所謂的的突破就是指的這個，但目前尚缺驗證驗證機。

深紫外光刻機和極紫外光刻機？

深紫外光刻機DUV，級紫外光刻機EUV。

紫外線在400納米（nm）以下至1納米（nm）。深紫外線光刻機建議使用193納米（nm）紫外線，極紫外線光刻機建議使用13.5納米（nm）紫外光。

目前能生產(chǎn)的產(chǎn)品EUV光刻機的只能荷蘭asml一家公司。

duv光刻機使用壽命？

十年。

一臺光刻機的壽命也不只是本質(zhì)一兩代芯片，如果沒有用193nm深紫外光刻機也是可以可以做到10nm乃至于7nm芯片的生產(chǎn)的，只不過工藝難度實現(xiàn)方法起來要比古怪，成本較高，.例如采用自對準八次成型后技術(shù)，就可以能夠得到非常玻璃狀的結(jié)構(gòu)，但因為芯片層級的工藝變地奇怪，是需要一些掩模版和材料，所以才用193nm光刻機生產(chǎn)7nm芯片非常不劃得來，所以到了這個程度可以上EUV光刻機。