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光掩膜原理?

面具就是模具。

通常用于制作電路或微通道。

一種簡單的掩模,將所需的電路印刷在膠片等物上,然后在待蝕刻的基板上涂上光刻膠,用掩模覆蓋曝光,電路轉(zhuǎn)移到膠合基板上,掩模不透明部分未覆蓋的地方曝光,可通過特定的試劑腐蝕去除,并在基板上形成所需的電路或通道。

OpenCV已經(jīng)將圖像處理(識別)的算法寫成函數(shù)了,那我們還有必要去學(xué)習(xí)這些算法嗎?

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