如何使用SVG技術(shù)進(jìn)行WebGIS開(kāi)發(fā)？可以參考下列文獻(xiàn)：1、基于SVG與GML的WebGIS體系結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)2、基于SVG的網(wǎng)絡(luò)地圖預(yù)覽模型的設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)3、SVG與矢量地圖的Web發(fā)布技術(shù)WEBG

如何使用SVG技術(shù)進(jìn)行WebGIS開(kāi)發(fā)？

可以參考下列文獻(xiàn)：1、基于SVG與GML的WebGIS體系結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)2、基于SVG的網(wǎng)絡(luò)地圖預(yù)覽模型的設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)3、SVG與矢量地圖的Web發(fā)布技術(shù)WEBGIS原理與方法教程（馬林兵，2010，科學(xué)出版社）中也有部分闡述（4.1SVG在WebGIS中的應(yīng)用）。

“SVG、SVC、FC”三種無(wú)功補(bǔ)償裝置的區(qū)別是什么？

1、SVG靜止無(wú)功發(fā)生器：采用電能變換技術(shù)實(shí)現(xiàn)無(wú)功補(bǔ)償，該裝置產(chǎn)生的無(wú)功和濾除諧波是靠其內(nèi)部電子開(kāi)關(guān)頻繁動(dòng)作來(lái)產(chǎn)生無(wú)功電流和與諧波電流相反的電流。

2、 SVC靜止無(wú)功補(bǔ)償裝置：采用的是無(wú)源器件進(jìn)行無(wú)功補(bǔ)償，該裝置產(chǎn)生的無(wú)功和濾除諧波是靠電容和電抗本身的性質(zhì)產(chǎn)生的。3、 FC無(wú)源濾波補(bǔ)償裝置：采用的是濾波電抗器和濾波電容器在特征次諧波頻率下形成LC串聯(lián)諧振，對(duì)該次諧波相當(dāng)于一個(gè)低阻抗通道，使諧波電流大部分流入濾波回路。所謂“低壓無(wú)功補(bǔ)償成套裝置”，是指用于低壓線路（380V等級(jí)）的、用來(lái)補(bǔ)償用電設(shè)備無(wú)功功率的成套設(shè)備。常見(jiàn)的就是低壓配電柜中的【低壓電容柜】。

需要具備哪些大數(shù)據(jù)技術(shù)能力才能稱(chēng)之為大數(shù)據(jù)人才？

對(duì)于大數(shù)據(jù)開(kāi)發(fā)工程師和大數(shù)據(jù)可視化工程師，需要具備的技能是不同的，下面我們分別來(lái)說(shuō)明：

用人單位對(duì)于大數(shù)據(jù)開(kāi)發(fā)人才的能力要求

技能要求：

1. 精通Java技術(shù)知識(shí)，熟悉Spark、kafka、Hive、HBase、zookeeper、HDFS、MR等應(yīng)用設(shè)計(jì)及開(kāi)發(fā)；

2. 了解python/shell等腳本語(yǔ)言；。

3. 熟悉大數(shù)據(jù)平臺(tái)架構(gòu)，對(duì)ETL、數(shù)據(jù)倉(cāng)庫(kù)等有一定了解；。

4. 有數(shù)據(jù)可視化、數(shù)據(jù)分析、數(shù)學(xué)模型建立相關(guān)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先考慮。

5. 有爬蟲(chóng)系統(tǒng)開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。

用人單位對(duì)于大數(shù)據(jù)可視化人才的能力要求

技能要求：

1) 熟練掌握各項(xiàng)Web前端技術(shù) (HTML/CSS/Java) ，了解svg，canvas，webgl技術(shù)；

2) 在地圖/gis相關(guān)數(shù)據(jù)可視化有過(guò)開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)；

3) 具有計(jì)算機(jī)圖形學(xué)理論基礎(chǔ)，熟悉數(shù)據(jù)可視化相關(guān)基礎(chǔ)算法；

4) 有過(guò)dashboard，大屏，數(shù)據(jù)展示各種開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，熟悉e-charts等工具

相關(guān)：

大數(shù)據(jù)培訓(xùn)，大數(shù)據(jù)需要學(xué)什么？

https://www.toutiao.com/i6605723461937529348/

大數(shù)據(jù)技術(shù)的應(yīng)用方向：https://www.toutiao.com/i6575857760468992516/

華為和國(guó)內(nèi)頂尖企業(yè)合作，用ASML模式研發(fā)光刻機(jī)需要幾年？

難度非常大，研發(fā)至少在3年以上。

我去年10月在我們學(xué)校的秋季招聘會(huì)上跟ASML美國(guó)研發(fā)工程師有過(guò)面對(duì)面交流，這里簡(jiǎn)單地和大家分享一些技術(shù)細(xì)節(jié)。

挑戰(zhàn)一：超大功率二氧化碳脈沖激光器模組

ASML設(shè)備中需用20千瓦以上的激光脈沖，聚焦并轟擊液態(tài)錫滴，產(chǎn)生EUV射線。開(kāi)發(fā)這種模組需要非常專(zhuān)業(yè)的計(jì)算機(jī)建模軟件進(jìn)行光路設(shè)計(jì)。國(guó)內(nèi)幾乎是空白。

挑戰(zhàn)二：錫滴發(fā)生器

你需要一組設(shè)備，他能夠與真空艙室對(duì)接，將固態(tài)錫熔化成液態(tài)錫，準(zhǔn)確地控制射出錫滴的大小和頻率，并在另一端精準(zhǔn)收集。

挑戰(zhàn)三：真空艙室內(nèi)的錫污染

這個(gè)問(wèn)題會(huì)導(dǎo)致要頻繁更換EUV收集用的反射鏡。ASML目前也在探索更好的解決方法。

挑戰(zhàn)四：EUV射線的反射材料

EUV不能以透射的方式進(jìn)行聚焦，反射鏡表面需覆蓋一層粗糙度極低且均勻的鉬/硅鍍膜，且整個(gè)艙室要保持高真空環(huán)境。ASML是與國(guó)外頂級(jí)企業(yè)合作解決的這一問(wèn)題。

挑戰(zhàn)五：光刻膠

等等。。

綜上，華為短期內(nèi)沒(méi)有可能造出與ASML媲美的光刻機(jī)，因?yàn)闊o(wú)論是計(jì)算模擬軟件還是新材料，國(guó)內(nèi)都相對(duì)落后。